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晶圓加熱裝置

簡(jiǎn)要描述:果果儀器 晶圓加熱裝置在半導(dǎo)體制程過(guò)程中非常重要,特別是在一些關(guān)鍵工藝中,如晶圓退火、鍵合、勻膠、刻蝕、氣相沉積等,它可以提供穩(wěn)定的溫場(chǎng)環(huán)境及精密的盤面均勻溫度,確保晶圓在各種溫區(qū)中的加熱要求,從而實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體器件的制造和研發(fā)。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-09-03
  • 訪  問  量:372

詳細(xì)介紹

品牌果果儀器應(yīng)用領(lǐng)域化工,電子,航天,電氣

果果儀器 晶圓加熱裝置在半導(dǎo)體制程過(guò)程中非常重要,特別是在一些關(guān)鍵工藝中,如晶圓退火、鍵合、勻膠、刻蝕、氣相沉積等,它可以提供穩(wěn)定的溫場(chǎng)環(huán)境及精密的盤面均勻溫度,確保晶圓在各種溫區(qū)中的加熱要求,從而實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體器件的制造和研發(fā)。




產(chǎn)品特點(diǎn):


  • 快速升溫

  • 溫度均勻

  • 控溫穩(wěn)定

  • 多溫區(qū)可調(diào)


適用領(lǐng)域:半導(dǎo)體、芯片、晶圓等




8英寸不銹鋼晶圓鍵合加熱模塊:


晶圓加熱裝置


晶圓加熱裝置


8英寸鋁合金加熱盤:

晶圓加熱盤,RT~400℃,溫度均勻性≤±4℃,盤面平整度≤0.02mm


晶圓加熱裝置


晶圓加熱裝置


8英寸不銹鋼加熱盤:

RT~550℃,真空時(shí)使用


晶圓加熱裝置


↑ 仿真模擬 ↑


晶圓加熱裝置


晶圓加熱裝置


↑ 平面度檢測(cè)及溫控曲線 ↑


晶圓加熱裝置




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